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漲知識！PECVD系統(tǒng)工藝干貨分享

PECVD系統(tǒng)技術是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產生輝光放電，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經一系列化學反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。在反應過程中，反應氣體從進氣口進入爐腔，逐漸擴散至樣品表面，在射頻源激發(fā)的電場作用下，反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解物發(fā)生化學反應，生成形成膜的初始成分和副反應物，這些生成物以化學鍵的形式吸附到樣品表面，生成固態(tài)膜的晶核...

連續(xù)式回轉爐能夠實現高密封精度的指標要求

連續(xù)式回轉爐適用于無機鹽粉體材料（如磷酸鐵鋰、碳酸錳、碳酸鋇）、金屬粉體等在氧化性（如空氣）或還原性氣氛（如氮氫混合氣）下的焙燒反應，也適用于化工行業(yè)催化劑載體氧化性處理以及石墨烯、納米材料、稀土等高新材料?；剞D窯的主要特點：在熱處理即焙燒過程中，回轉筒體有個小傾斜度，散裝固體在窯中不斷地從進料端移動到出料端。窯爐一般都是連續(xù)、自動運行的。它們可以直接運輸散裝固體，而不需要進一步的輸送設備，這使得這些窯爐更加節(jié)能。由于回轉窯焙燒工藝對散裝固體或者粉體有著重要的機械影響，因此必...

氣氛管式爐在操作時，以下幾點得注意了

相信大多數人都知道，在工業(yè)上使用的氣氛管式爐中，許多可控氣體是可燃的，在特殊的條件下可能發(fā)生爆炸。這種爆炸可能損壞設備和威脅操作人員的人身安全。因此，在設備運行中，應對潛在的危險給予高度重視。在已發(fā)生的事件中，特別引人注意的是，必須按照操作規(guī)程進行操作。在可能發(fā)生危險之前，必須認真分析和研究安全操作規(guī)程。沒有多少設備在任何危急的情況下都能安全地運行。既使能做到這一點，但為了提高生產率，技術熟練的操作者往往也不愿意在整個生產過程中使用所有的安全系統(tǒng)。下面我們一起去看看氣氛管式爐...

淺析PECVD系統(tǒng)的工藝原理

PECVD系統(tǒng)主要由真空和壓力控制系統(tǒng)、淀積系統(tǒng)、氣體及流量控制、系統(tǒng)安全保護系統(tǒng)、計算機控制等部分組成。該技術是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產生輝光放電，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經一系列化學反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。工藝原理：在反應過程中，反應氣體從進氣口進入爐腔，逐漸擴散至樣品表面，在射頻源激發(fā)的電場作用下，反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解...

滑軌式管式爐淬火不充分引起變形

滑軌式管式爐是一體化結構設計，用于1100℃以下快速升溫快速降溫的特殊工藝要求，通過移動爐體實現快速冷卻的目的。同時也可以預先設定溫度，然后移動到樣品處，達到快速升溫的效果。適合用于廣泛的RTP工藝及CVD石墨烯工藝。適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。爐體采用MXG1200開啟式管式爐，爐底安裝有直線滑軌，當生長結束后，左右拉動爐體能夠保證有足夠的空間使實驗樣品移出爐體，實現快速降溫的要求。性能特點：1、工作溫度RT-1000℃；2、日本進口智能程序控溫儀控制精準，可編...

壓力燒結爐的主要功能和特點

壓力燒結爐采用立式結構由爐體、爐升蓋降機構、真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)，溫控系統(tǒng)等組成。爐體采用雙層水冷結構，內壁為16MnR壓力容器專用鋼，外層優(yōu)質碳鋼，中間通水冷卻。爐內發(fā)熱元件為石墨管，保溫元件為碳氈及石墨復合結構。爐側裝有一觀察孔、紅外測溫口、熱電偶孔。熱電偶選用鎢錸型，同時具有高溫時自動退出加熱區(qū)的功能。適用于氮化硅陶瓷球，陶瓷刀具、LED粉體還原與燒結、硬質合金，粉末冶金燒結等材料在高壓氮氣或氬氣氣氛內進行燒結，有利于增加材料的燒結密度，提高材料的機械性能。燒結工藝應用：...

使用高溫管式爐時，容易忽略的幾個問題

高溫管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，LED發(fā)光材料，磨具等行業(yè)測定材料在一定氣氛條件下的專業(yè)設備?？蛇x擇單設定點或30段可編程控制器。節(jié)能型的陶瓷纖維材料和雙層結構，可將外表溫度降到常溫。均溫區(qū)長，操作簡便，密封可靠，綜合性能指標較高。爐管可選擇配置耐熱鋼、石英玻璃、陶瓷管等材料。高溫管式爐的結構簡單，熱效率高，又能連續(xù)生產，并且操作方便，因此在冶金，玻璃，熱處理，新能源等的行業(yè)中有著廣泛的應用，為了更好地使用，要注意使用規(guī)范，以下是根據相關工作人...

還不了解什么是PECVD系統(tǒng)？請看這里！

什么是PECVD系統(tǒng)？它是化學氣相沉積法，是一種化工技術，該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。它是一種PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）的管式爐系統(tǒng)，它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空泵和三通道質量流量計氣體流動系統(tǒng)組成。它可以混合1-3種氣體用于CVD或擴散?；瘜W氣相淀積法已經廣泛用于提純物質、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮...