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技術(shù)文章

TECHNICAL ARTICLES

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  • 20108-13
    熱應力

    熱處理殘余力是指工件經(jīng)熱處理后zui終殘存下來的應力,對工件的形狀,尺寸和性能都有極為重要的影響。當它超過材料的屈服強度時,便引起工件的變形,超過材料的強度極*就會使工件開裂,這是它有害的一面,應當減少和消除。但在一定條件下控制應力使之合理分布,就可以提高零件的機械性能和使用壽命,變有害為有利。分析鋼在熱處理過程中應力的分布和變化規(guī)律,使之合理分布對提高產(chǎn)品質(zhì)量有著深遠的實際意義。例如關(guān)于表層殘余應力的合理分布對零件使用壽命的影響問題已經(jīng)引起了人們的廣泛重視。1.鋼的熱處理應...

  • 20107-29
    真空爐的特點

    (1)水冷裝置,真空熱處理爐的爐殼、爐蓋、電熱元件導別處置(水冷電極)、中間真空隔熱門等部件,均在真空、受熱狀態(tài)下工作:在這種極為不利的條件下工作,必須保證各部件的結(jié)構(gòu)不變形、不損壞,真空密封圈不過熱、不燒毀。因此,各部件應該根據(jù)不同的情況設置水冷裝置,以保證真空熱處理爐能夠正常運行并有足夠的使用壽命。(2)嚴格的真空密封:金屬零件進行真空熱處理均在密閉的真空爐內(nèi)進行,因此,獲得和維持爐子原定的漏氣率,保證真空爐的工作真空度,對確保零件真空熱處理的質(zhì)量有著非常重要的意義。所以...

  • 20107-28
    真空爐的常識

    1.真空爐處理鈦合金時,不宜用氮氣作為冷卻氣體,因為鈦和氮在高溫下反應,形成金黃色的氮化鈦。2.真空爐活動連接部分全部采用O型橡膠圈密封連接,此部分均通水冷卻。3.工件在真空狀態(tài)下淬火,應使用真空淬火油,此油具有較低的飽和蒸氣壓。4.真空爐的保養(yǎng)應在真空或充純氮狀態(tài)下,避免平時不用時吸氣,吸潮。5.國內(nèi)真空爐的壓升率應不大于1.33Pa/h,國外某些企業(yè)的標準為0.67Pa/h6.真空加熱以輻射為主,工件在爐內(nèi)應該保持間距。7.升溫過程中,工件及爐內(nèi)材料會放氣,使真空度下降。...

  • 20107-27
    真空爐的種類

    一.真空感應爐半連續(xù)式真空感應爐:坩堝可連續(xù)澆幾個模子,不必等爐冷后,再將模子取出相對周期式真空爐而言,不必對加熱室反復抽真空,可使加熱室始終處于真空中,另外不必等爐冷后,再將模子取出,提率。二.真空電阻爐1.外熱式真空爐:(在普通井式爐爐膛中放一個真空爐罐)A.主要進行退火操作,可通過拆去真空管道吊出爐罐進行冷卻,可準備幾個真空爐罐,進行連續(xù)操作。2.內(nèi)熱式真空爐:(爐罐真空,爐罐和爐體之間也是真空)A.特點:可使爐罐內(nèi)外壓力一致,減少爐罐壁厚B.內(nèi)熱式:電阻絲懸掛在圓柱形...

  • 20105-25
    氣氛對硅鉬棒的影響

    氣氛對硅鉬棒的影響1、二硅化鉬電熱元件(硅鉬棒)是一種以二硅化鉬為基礎制成的電阻發(fā)熱元件,其在氧化氣氛下高溫使用,表面?;梢粚庸饬林旅艿氖ⅲ⊿iO2)玻璃膜,能保護硅鉬棒不再氧化,因此硅鉬棒元件具有*的高溫抗氧化性。在氧化氣氛下,元件zui高使用溫度為1800℃,根據(jù)用戶需求可制成棒狀,U型、W型、U型直角等形狀。硅鉬棒通??墒褂玫臓t體溫度為1300℃-1800℃,廣泛應用于冶金、玻璃、陶瓷、磁性材料、耐火材料、晶體、電子元器件、窯爐制造等領(lǐng)域、工業(yè)高溫爐的加熱元件,...

  • 20105-25
    氣氛對硅碳棒的影響

    氣氛對硅碳棒的影響硅碳棒為非金屬電熱元件,是用高純度綠色六方碳化硅為主要原料,按一定料比加工制坯,經(jīng)2200℃高溫硅化再結(jié)晶燒結(jié)而制成的棒狀非金屬高溫電熱元件.正常使用溫度可達1450℃,合理使用條件下,連續(xù)使用超過2000小時,在空氣中使用,不需要任何保護氣氛.硅碳棒用途:由于硅碳棒使用溫度高,具有耐高溫、抗氧化,耐腐蝕、升溫快、壽命長、高溫變形小、安裝維修方便等特點。有良好的化學穩(wěn)定性。若與自動化供電系統(tǒng)配套,既可得到的恒定溫度,又可根據(jù)生產(chǎn)工藝的實際需要按曲線自動調(diào)溫。...

  • 200910-29
    CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學氣相淀積)

    CVD試驗CVD(ChemicalVaporDeposition,化學氣相淀積),指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室,在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過CVD處理后,表面處理膜密著性約提高30%,防止高強力鋼的彎曲,拉伸等成形時產(chǎn)生的刮痕。CVD特點:淀積溫度低,薄膜成份易控,膜厚與淀積時間成正比,均勻性,重復性好,臺階覆蓋性優(yōu)良。

  • 20097-4
    真空熱處理爐的節(jié)能技術(shù)

    真空熱處理爐的節(jié)能技術(shù)空熱處理爐是一種先進的熱處理設備可以進行金屬材料和工件的真空加熱、淬火、回火、退火、滲碳、滲氮、加壓氣淬等各種熱處理,也可進行粉未冶金燒結(jié)、航空航天工件釬焊等,真空熱處理過程能使被處理材料和工件性能顯著提高,材料得到充分利用。**因而,廣義上真空爐是一種明顯節(jié)省單位能的先進的熱處理設備。選用適當?shù)臓t爐室內(nèi)加熱元件和隔熱材料,對于減少爐子本身能耗、提高加熱效率是有重要意義的。加熱元件一般情況可采用鎳鉻合金或鐵鉻合金,工兒溫度要求1000℃以上時,應采用鉬、...

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